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Innovatives Maskensystem für die Halbleiter-Lithographie

Innovatives Maskensystem für die Halbleiter-Lithographie

Steinmeyer Mechatronik, der Spezialist für Positioniersysteme aus Dresden, hat ein innovatives Maskensystem für die UV-Lithographie in der Halbleitertechnik entwickelt. Die XY-Theta-Verstellung mit Parallelkinematik zeichnet sich durch eine hervorragende Genauigkeit, eine leichte Handhabung sowie ein optimiertes Wartungskonzept aus. Das Maskensystem erlaubt die Feinjustierung und exakte Ausrichtung von Belichtungsmasken in der Halbleiter-Lithographie. Die XY-Theta-Verstellung verfügt über dreiRead more about Innovatives Maskensystem für die Halbleiter-Lithographie[…]